Технологии обработки ионными и плазменными пучками

  • Ионная имплантация является перспективным методом модификации поверхности.
  • На нашем предприятии данная технология развивается применительно к задачам точного и общего машиностроения.
  • Оборудование, создаваемое для этих целей позволяет получать пучки ускоренных ионов почти всех элементов таблицы Д.И. Менделеева в широком диапазоне энергий (до 50 кэВ для однозарядных ионов и до 200 кэВ для многозарядных ионов тяжелых металлов W, Mo, Ta, Re...). При этом используются источники ионов классического газового разряда типа источников Фримана, и импульсно-дугового разряда типа источников Брауна. На базе этих источников созданы доступные для применения в промышленном производстве импланторы серии "Сокол" и серии "Вита".
  • Воздействие ионного пучка на поверхность приводит так же к распылению материала поверхности, который, в свою очередь, можно осаждать на подложку. На этом принципе построены устройства распыления материалов ионным пучком и устройства очистки поверхности, применяемые в создаваемом в "Инакотек" оборудовании.